Die Veranstaltung findet unter dem Vorbehalt statt, dass zu diesem Zeitpunkt eine Präsenzlehre möglich ist. In anderem Fall erhalten Sie weitere Informationen.
RÜCKMELDUNG und TEILNAHMEBESTÄTIGUNG: Bis zum 16. April endgültige Anmeldung im Moodle-Kursraum „From itch to etch A“. Infos und Passwort erhalten Sie per Email.
INHALT:
Einführung in den Tiefdruck
Im Zentrum des Kurses steht die Auseinandersetzung mit den verschiedenen technischen und künstlerischen Möglichkeiten des Tiefdrucks. Die Radierung bietet eine Vielzahl an Ausdrucksmitteln, die von samtenen Kaltnadellinien, den gestochen scharfen Linien der Ätzradierung, über die Grauabstufungen der Aquatinta bis hin zur Vernis mou (Weichgrundätzung) reichen. Es geht um die Kombination der verschiedenen Techniken miteinander, die dem künstlerischen Anliegen entsprechend ausgewählt werden und der damit einhergehenden Erzeugung von Spannung. Gleichzeitig bleibt Raum für Experimente und das Finden einer eigenen Bildsprache.
TEILNEHMENDE: max. 6, für Studierende, die noch keinen Druckkurs besuchthaben, ab dem 3. Semester, Voraussetzung: abgeschlossenes B-Modul
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