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Strukturbaum
Keine Einordnung ins Vorlesungsverzeichnis vorhanden.
Veranstaltung ist aus dem Semester
WiSe 2020/21
, Aktuelles Semester: SoSe 2024
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from itch to etch – Einführung in den Tiefdruck , Kurs A
Sprache: Deutsch
Belegpflicht
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(Keine Nummer)
Übung
WiSe 2020/21
4 SWS
keine Übernahme
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Institut:
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Institut für Kunst und Kunstwissenschaft
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Teilnehmer/-in
Maximal : 4
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Zugeordnete Lehrperson:
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Matthes
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Zur Zeit keine Belegung möglich
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Termin:
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Donnerstag
09:00
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12:00
wöch.
Beginn : 05.11.2020
Ende : 11.02.2021
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R12 T02 E02
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| Kommentar: |
Einführung in den Tiefdruck:
Im Zentrum des Kurses steht die Auseinandersetzung mit den verschiedenen technischen und künstlerischen Möglichkeiten des Tiefdrucks. Die Radierung bietet eine Vielzahl an Ausdrucksmitteln, die von samtenen Kaltnadellinien, den gestochen scharfen Linien der Ätzradierung, über die Grauabstufungen der Aquatinta bis hin zur Vernis mou (Weichgrundätzung) reichen. Es geht um die Kombination der verschiedenen Techniken miteinander, die dem künstlerischen Anliegen entsprechend ausgewählt werden und der damit einhergehenden Erzeugung von Spannung. Gleichzeitig bleibt Raum für Experimente und das Finden einer eigenen Bildsprache. |
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